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北京科创鼎新真空技术有限公司
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本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。
机械部分主要由以下两个单元构成:真空箱室单元、真空获得系统单元。
真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺:半导体硅片除气;3d打印金属工件与合金材料的高真空热处理;x射线管高真空除气。
1、加热区尺寸:定制
2、加热功率:30-80 kw实际功率可调
3、加热元件:钼片
4、隔热组件:钼+不锈钢
5、温度测量:s型热电偶
6、控温精度:±1℃
7、升温速率 :由室温升至1000℃小于80min空载
8、加热室:采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构,各层之间采用99刚玉陶瓷,-体为钼片,钼片均匀环绕在隔热屏周围,实现-的温度均匀性。具有使用-、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢310s板材料,并且焊接多道加强筋以-不变形。
9、加热控制:采用pid智能控温模块设计,可编辑30+段升温曲线,存贮20+组工艺配方,组合plc等实现超压、超温、过流等自动报警保护功能,10寸液晶触摸屏显示操作,具有操作方便,功能-,稳定性好等特点。
本设备是一种可以提供真空环境的储存设备,分为上中下三层箱室,均可独立工作。
加热室:采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构,各层之间采用99刚玉陶瓷,-体为钼片,钼片均匀环绕在隔热屏周围,实现-的温度均匀性。具有使用-、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢310s板材料,并且焊接多道加强筋以-不变形。